Duennschichttechnologie fuer oxidische Hochtemperatur-Supraleiter
Projektleitung und Mitarbeiter
Alff, L. (Dipl. Phys.), Baier,
U. (Dipl. Phys.), Beck, A. (Dipl. Phys.), Eissler, D. (Dipl. Phys.),
Fischer, G. (Dipl. Phys.), Gross, R. (Dr. rer. nat.), Hartmann,
M. (Dipl. Phys.), Huebener, R. P. (Prof. Dr. phil.), Keck, M., Kober,
F. (Dr. rer. nat.), Koelle, D. (Dr. rer. nat.), Schmalzl,
S. (Dipl. Phys.)
Forschungsbericht :
1990-1992
Tel./ Fax.:
Projektbeschreibung
Fuer die Herstellung von epitaktischen Schichten
aus Hochtemperatur-Supraleitern wurde ein
Hohlkathoden-Magnetron-Sputterverfahren entwickelt. Dieses Verfahren
kann mittlerweile auch fuer die Herstellung von HTSL-Uebergittern
verwendet werden. Der Aufbau eines aus der
Elektronenstrahl-Verdampfung beruhenden Verfahrens befindet sich noch
im Versuchsstadium. Fuer die Mikrofabrikation von
HTSL-Duennschichtstrukturen wurden verschiedene Verfahren entwickelt
bzw. etabliert. Besonders erwaehnenswert ist hier ein
Ionenstrahlaetzverfahren, mit dem HTSL Leiterbahnen bis zu einer
Breite von weniger als 1 mm ohne Degradation der supraleitenden
Eigenschaften hergestellt werden koennen. Neben den
Standarduntersuchungsmethoden fuer die Evaluierung der physikalischen
Schichteigenschaften wurde von uns routinemaessig die
Tieftemperatur-Rasterelektronenmikroskopie eingesetzt.
Mittelgeber
Drittmittelfinanzierung: BMFT
Publikationen
Alff, L., Fischer, G., Gross, R.,
Kober, F., Husemann, K.-D., Beck, A., Nissel, T., Burckhardt, C.,
Schmidl, F.: Dry etching processes for high temperature
superconductors. - Physica C200, 277-286 (1992).
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- Stand: 15.09.96
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